工艺控制在工业等离子应用中至关重要，以确保工艺的可靠性和高质量。在这里，光谱法是首选技术，因为它不会影响等离子体，并且可以实时监测多种等离子种类。系统是一种基于光谱法的等离子体监测系统，具有分析、优化和控制等离子体应用所需的所有功能。

该系统的光纤光谱仪可连续获取200至1100mm范围内等离子光发射的完整光谱（HR系列为200-860），该系列具有多达8个独立的光谱通道，这些通道对于多室工艺控制或反应溅射应用中的空气分辨气流控制等必不可少。实时监测等离子发射同时观察并实时跟踪工艺相关等离子粒子的光发射，这样可以连续监测等离子状态并即时了解变化。

提供模拟和数字输出和输入，用于安装开环和闭环控制功能。此功能用于终点检测或监控与标准等离子工艺条件的偏差。集成的PID控制功能可直接访问需要闭环控制的应用，例如反应溅射应用中的气体流量控制或功率控制

该系统完全由软件控制，所有功能均可通过一次点击导航获得。分屏显示所有过程相关数据的最大概览。特殊功能:配方管理器、设定点报警、带自动响应曲线缩放的PID控制、DLL远程控制、管理员/用户模式等。

有多种光学元件可用于收集等离子体辐射:光纤、准直光学元件和用于真空和真空环境下的光学馈通。所有真空环境下的光学元件都配有保护装置，以避免光学表面被涂层。为了评估和分析记录的光谱数据，可以使用可选的SpecLine软件包: SpecLine配备了广泛而独特的原子和分子数据库，这对于识别等离子体种类和分析记录的光谱至关重要。