scia Finish 1500-思锐奇系统

scia Finish 1500

Scia Finish 1500离子束抛光机用于高精度光学元件的表面抛光。该IBF系统采用高去除率、高稳定离子束源，配备高效真空系统，可用于24/7运行的批量生产。

采用聚焦离子束轰击样品表面，通过控制离子束焦斑在局部区域的驻留时间，来实现表面材料的定量去除，从而实现抛光或表面修整

适合于大口径光学元件长期稳定抛光

专用高效离子源保证大面积的高精度抛光

加工效率高

真空仓滑动门设计，可轻松装载大型基板

针对批量生产的设计，真空恢复用时短

常规属性

- 采用聚焦离子束轰击样品表面，通过控制离子束焦斑在局部区域的驻留时间，来实现表面材料的定量去除，从而实现抛光或表面修整

- 适合于大口径光学元件长期稳定抛光

- 专用高效离子源保证大面积的高精度抛光

- 加工效率高

- 真空仓滑动门设计，可轻松装载大型基板

- 针对批量生产的设计，真空恢复用时短

系统性能

样品尺寸	ф1500 mm，400 kg
轴向直线运动特性	最大线速度0.15m/s, 最大线加速度15m/S2
离子源	★ 37mm 圆形射频源RF37-i，束腰7--15mm （FWHM） ★ 120mm 圆形射频源RF120-m，束腰16-- 36mm （FWHM）可选第二个离子源
中和器	射频等离子桥中和器N-RF
参考去除率	SiO2：14 mm3/h（RF37-i)96 mm3/h （RF120-m)
加工后表面精度	< 0.5nm rms （薄膜修整厚度不均匀性，与初始状态有关）
基础真空度	1x10-6 mbar
系统尺寸(W x D x H)	3.6m x 7.7 m x 3.4 m (不含电柜和真空泵）
软件界面	SECS II / GEM, OPC