scia Multi 680 磁控溅射镀膜系统是专门为高精度光学多层膜制造而设计的，在直径为Φ680mm以内的平面或曲面基底上，镀制超过100个周期的超薄多层膜，可以镀高精度均匀膜或渐变膜。配以自动化的样品装载loadlock机构，可以缩短装载时间并提高产能。
| 样品尺寸 | Φ680 mm, 130 kg |
| 溅射源 | 6个矩形磁控源 (600 mm x 90 mm), 可选离子源 |
| 溅射模式 | DC : 连续 或 脉冲（1 kW）或 RF （1 kW，13.56 MHz） |
| 参考溅射速率 | Cr: 45 nm/min, Si: 22 nm/min, Ti: 22 nm/min |
| 均匀性变化 | Φ300 mm ：< 0.1 % (σ/mean) Φ450 mm ：< 0.2 % (σ/mean) |
| 基础真空 | < 1 x 10-8 mbar |
| 系统尺寸 (W x D x H) | 7.90 m x 4.40 m x 3.50 m （不含电控柜与真空泵） |
| 软件界面 | OPC |
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