scia Clean 800用于对重量高达500kg的三维形状样品进行干法清洗。真空腔室采用特别的设计与制造工艺,确保极高的基本真空度,并允许通过质谱仪测量来量化样品上的微小残留污染物。
X射线光学器件的超高纯度清洗
束线加速器组件的清洗
复杂真空组件的除气检测
使用超高真空(真空解析)去除三维形状样品上的污染物
为了提高清洗质量,可选择加热样品和/或腔室(热解析)并应用等离子体处理
干法清洗允许在真空中用不同的方法去除样品表面及内部的污染物。这些方法可以连续应用以优化清洗结果。
底板尺寸 | 口径800 mm,长500mm,重500kg |
底板加热 | 辐射加热器(4.5 kW)可达250°C |
腔室加热/冷却 | 高压水加热至150°C,冷却(16kW) |
等离子体源 | ICP等离子体源(PI400),2.5 kW |
基础真空 | < 5 x 10-9 mbar |
质量控制 | 用于计量排气的质谱仪 |
系统控制 | 1.30 m x 2.50 m x 1.40 m (不计机柜和真空泵) |
配置 | 带顶盖、手动装载和运输车的单腔 |
软件界面 | SECS II / GEM, OPC |