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磁控溅射镀膜系统
scia Multi 500
系统具有6个磁控溅射源，线性排布 样品基板经过磁控管的线性运动并叠加旋转运动，能够实现优异的沉积均匀性和梯度膜层的制备。
scia Multi 300
系统包括4个单独控制的线性磁控溅射源。 这些工艺部件以面朝上的径向对称配置安装在工艺室的底部。待沉积的反射镜光学器件将通过旋转驱动器在工艺部件上方面朝下移动。多层膜由轨道运动和溅射源的顺序来定义。在旋转一圈之后，将沉积一个完整周期的多层膜。轨道行星运动与样品的自旋旋转运动叠加。
scia Magna 200
系统可实现两种不同配置的磁控溅射： 带有旋转磁场的单个磁控管，磁控管直径>基底直径。（见图）或 多达4个共聚焦排列的磁控管，磁控管直径<基底直径。（需要旋转）或 DRM 400双环磁控管，具有两个同心靶，磁控管直径>基底直径。
scia Multi 1500
scia Multi 1500 磁控溅射镀膜系统是专门为高精度光学多层膜制造而设计的，在直径为Φ1500mm以内的平面或曲面基底上
scia Multi 680
scia Multi 1500 磁控溅射镀膜系统是专门为高精度光学多层膜制造而设计的
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