首页
产品
scia Systems
靶材蒸发材料与Bonding技术
PECVD（化学气相沉积）和等离子体监测过程控制系统
离子束刻蚀系统
scia Mill 150
scia Mill 200
scia Mill 300
离子束抛光刻蚀机
scia Trim 200
scia Finish 1500
scia Trim 300
离子束溅射镀膜机
scia Coat 200
scia Coat 500
scia Opto 300
磁控溅射镀膜系统
scia Multi 680
scia Multi 1500
scia Magna 200
scia Multi 300
scia Multi 500
离子源
scia 微波离子源 MW系列
scia 射频离子源 RF系列
化学气相沉积与反应离子刻蚀系统PECVD/RIE
scia Cube 300
scia Cube 750
电子束蒸发掠角沉积系统
scia Eva 200
干洗系统
scia Clean 800
scia Clean1000 / 1500 / 3000
溅射靶材（Sputter- Target）
靶材Bonding技术
微波等离子体源MIRO-200-CI
等离子体监测和过程控制系统
应用
新闻
关于
联系
首页
产品
scia Systems
离子束刻蚀系统
离子束抛光刻蚀机
离子束溅射镀膜机
磁控溅射镀膜系统
离子源
化学气相沉积与反应离子刻蚀系统PECVD/RIE
电子束蒸发掠角沉积系统
干洗系统
靶材蒸发材料与Bonding技术
溅射靶材（Sputter- Target）
靶材Bonding技术
PECVD（化学气相沉积）和等离子体监测过程控制系统
微波等离子体源MIRO-200-CI
等离子体监测和过程控制系统
应用
新闻
关于
联系
product
首页
>
产品
>
Pfeiffer Vacuum
>
全量程真空度计
全量程真空度计
法兰尺寸 DN 25 ISO-KF
最高压力适用于惰性气体和低于 55 °C 的温度
耐腐蚀
全量程真空度计设备
PKR 251，氟化碳橡胶密封，DN 25 ISO-KF
最高压力适用于惰性气体和低于 55 °C 的温度
首页
电话
留言
顶部
您可以填写下面的资料留言给我们，
我们会尽快回复您。
姓名
电话
邮箱
公司
信息
首页
