离子束溅射 (IBS) 也称为离子束沉积或离子束溅射沉积 (IBSD)，是一种 PVD 技术，可在基材上产生特别致密、均匀且无缺陷的薄膜。

聚焦的宽离子束用惰性气体离子（例如氩气或氮气）轰击目标材料。离子以高动能与目标表面碰撞，喷射出材料的单个颗粒（原子或分子），并使它们凝结在基材表面上，形成薄涂层。通过在一个处理室中使用各种靶材，可以高质量地生产多个堆叠层，即所谓的多层涂层。

与磁控溅射或蒸发等其他 PVD 技术相比，离子束溅射具有多种优势。溅射粒子以高能量撞击基板。因此，它们具有高表面迁移率，并且很容易嵌入已沉积的颗粒之间，从而形成特别致密且无缺陷的层。低溅射压力和低工艺温度可实现致密的薄膜生长和优异的薄膜性能。此外，离子束能量可精确调节，从而可以更好地控制沉积层的特性，包括密度、附着力和成分。

离子束溅射的一种特殊形式是双离子束溅射或双离子束沉积。通过添加辅助离子束源，使用第二次离子轰击来影响基板上的生长薄膜或预清洁基板。